Mély{0}}kristály szilícium öntvény
A Deep{0}}Crystal Silicon Ingot kiterjesztett megszilárdulási zónákkal és szabályozott hűtési sebességgel lett kialakítva, hogy mély, hibás{1}}minimalizált kristályos régiókat hozzon létre, amelyek alkalmasak nagy ostyákhoz.
- Gyors szállítás
- Minőségbiztosítás
- 24 órás ügyfélszolgálat
A termék bemutatása
Mély{0}}kristály szilícium öntvény
A Deep-Crystal Silicon Ingot a nagy-volumengyártók számára készült, akik nagyobb formátumú ostyákat és minimális élekkel kapcsolatos teljesítményveszteséget szorgalmaznak. Felismerve, hogy az ostya „hatékony területét” a forrás rúdjának egyenletessége határozza meg, ezeket az anyagokat szabadalmaztatott tömb segítségével termesztik.Termikus{0}}mezőbővítésjegyzőkönyv. Ez a mélyebb kristályos integritás csökkenti a szelet-változékonyságát a magtól a tuskóoszlop legszéléig, és támogatja az agresszív vékonyítási stratégiákat (a85–90 μm) anélkül, hogy veszélyeztetné a mechanikai szilárdságot vagy mikro{0}}repedéseket okozna. Az eredmény egy olyan hordozó, amely kiszámíthatóan viselkedik nagy sebességű-gyémánt-huzalfűrészelési és automatizált cella-feldolgozó környezetben. A folyamat azonnali készenlétének biztosítása érdekében a szállítási lehetőségek közé tartozik a méretre szabott szolgáltatásokat és a belső hibasűrűségeket lefedő előzetes ellenőrzési
Kiterjesztett szilárdítási zóna tervezés:A Deep{0}}Crystal technológiánk aktív hő-árnyékolást és optimalizált tégelypozicionálást alkalmaz a szilárd-folyadék felület kisimítására. A stabil megszilárdulás zónájának kiterjesztésével minimalizáljuk az üres helyek és a közbeiktatott elemek sugárirányú eloszlását, ami az elsődleges mozgatórugója a nagy -átmérőjű (210 $ mm+) bugák egyenletes ellenállásának.
Rugalmasság az agresszív ritkítási stratégiákhoz:Kifejezetten a 2026-os anyagmegtakarítási célokra{1}}optimalizált tuskók kivételesen magas törési szilárdsági profillal rendelkeznek. Ez a szerkezeti „szívósság” ultravékony szeletelést tesz lehetővé minimális bevágási veszteséggel, így még az alatti vastagságnál is90 μm, a lapkák megőrzik a nagy sebességű vákuumkezeléshez szükséges mechanikai merevséget-.
Minimalizált él{0}}Kapcsolódó teljesítményveszteség:A tömb külső hűtési sebességének szigorú szabályozásával megszüntetjük az "oxigéngyűrűt" és a fémes csapadékcsoportokat, amelyek jellemzően rontják a nagy lapkák kerületét. Ez biztosítja, hogy a cella hatékonysága egyenletes legyen a teljes felületen, maximalizálva a végső G12 modul teljesítményét.
Népszerű tags: mély-kristályszilícium-ingot, Kína mély-kristályszilícium-ingot gyártók, beszállítók, gyár
